Browsing by Author "Vescovi, Milenko"
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- ItemCaracterización de X-pinches de cobre y su aplicación como fuente de rayos X para deflectometría Talbot-Lau.(2020) Vescovi, Milenko; Veloso Espinosa, Felipe Eduardo; Pontificia Universidad Católica de Chile. Instituto de FísicaSe caracterizó espacial, temporal y espectralmente la emisión de rayos X proveniente de un X-pinch de 4 alambres de cobre de 25µm de diámetro en el generador Llampüdkeñ, con el fin de evaluar su uso como backlighter para deflectometría moiré-Talbot Lau. Se midió una fuente central de 50 − 150µm, con emisión significativa en el rango < 5keV. Por medio de un espectrómetro especialmente diseñado y construido para este trabajo, se determinó que la radiación en esta región corresponde principalmente a emisión continua. La fuente central, asociada al hotspot, tiene una menor emisión en el rango cercano a 8keV, correspondiente a emisión satélite K de iones tipo Li. En este rango de energías y en rayos X duros, la emisión dominante proviene del plasma ∼ 300 − 400µm sobre la fuente central, hacia el ánodo. Desde esta región se detectaron fuentes de tamaño milimétrico, posteriores a la emisión central y asociadas a haces de electrones acelerados a través del gap formado tras la primera emisión. Se midió emisión cercana a 8 − 8.3keV proveniente de una región de tamaño extendido en el espectrómetro, además de un intenso continuo en energías > 9keV. Se usó un deflectómetro Talbot-Lau de orden 1, optimizado para 8keV a 5 − 6cm del plasma, con un objeto de fase de prueba (placa de Be). Usando el X-pinch como fuente se obtuvieron patrones de franjas que permitieron estimar la densidad de la placa con una diferencia porcentual menor al 13 %. Se observa un contraste disminuido en los patrones moiré (< 18 %), posiblemente asociado a la emisión en un amplio espectro proveniente de las fuentes de mayor tamaño en el X-pinch. Se observó depósito de material, ruptura y curvatura en los filtros protectores del deflectómetro, lo que en general no afectó la toma de datos. No se observan efectos de campo magnético ni temperatura que afecten la formación del patrón final. Según los resultados, el X-pinch es una fuente útil para deflectometría Talbot-Lau en experimentos de potencia pulsada. Sin embargo es necesario optimizar el arreglo en cuanto a masa y material de los alambres, con el fin de asegurar resoluciones temporales y espaciales apropiadas para este tipo de experimentos. Parte de los resultados de este trabajo se encuentra en proceso de publicación[1].
- ItemEmission of fast ions from conical wire array Z-pinches studied at different background pressures(2018) Muñoz Cordovez, Gonzalo Andrés; Veloso Espinosa, Felipe Eduardo; Valenzuela Villaseca, Vicente; Vescovi, Milenko; Useche Duque, Wilmer Eleazer; Wyndham, Edmund; Favre Domínguez, Mario
- ItemX-ray emission from copper X-pinches driven at a current rate of similar to 1kA/ns(ELSEVIER, 2021) Vescovi, Milenko; Veloso, Felipe; Valenzuela, Julio; Favre, MarioA characterization of Cu X-pinches experiments driven at current rates similar to 1kA/ns is presented. The emission of two bursts of X-rays associated with hot-spot formation and electron beam-target mechanism are identified. The first burst, associated with the central hot-spot, appears consistently at currents in the range (154 +/- 20) kA, with time correlated noticiable dips in the current derivative signal, which indicate sudden changes in load impedance. This first burst emits photons pulses of similar to 1-2 ns width and with source sizes ranging between 50 and 150 mu m with emission in the 2-5 keV energy range combined with photons in the similar to 8-9 keV range. The second burst, associated with electron beam-target mechanism, emits longer pulses of tens of nanoseconds, with source sizes larger than similar to 0.75 mm and emission concentrated in energies >5 keV, reaching up to 9 keV or more. Spectroscopic data shows the presence of K-shell line emissions of Cu XXVII and Cu XXVIII, which combined with PrismSpect simulations indicate a electron temperature of similar to 850 eV with an ion density of 10(22) cm(-3). Further details and analysis of the X-pinch plasma and its possible applications are presented and discussed.