Efecto de un plasma de radiofrecuencia dual sobre la dinámica y composición en la deposición por láser pulsado
| dc.contributor.advisor | Bhuyan, Heman | |
| dc.contributor.author | Escalona Álvarez, Miguel Benito | |
| dc.contributor.other | Pontificia Universidad Católica de Chile. Facultad de Física | |
| dc.date | 2022-05-04 | |
| dc.date.accessioned | 2021-05-05T14:56:49Z | |
| dc.date.issued | 2021 | |
| dc.date.updated | 2021-05-03T16:31:23Z | |
| dc.description | Tesis (Doctor en Física)--Pontificia Universidad Católica de Chile, 2021 | |
| dc.description.abstract | En este trabajo se presentan los resultados obtenidos al combinar un sistema convencional de deposición por láser pulsado con un plasma de radiofrecuencia (RF) dual. El sistema fue utilizado para estudiar los efectos del plasma RF sobre la dinámica y composición del plasma producido por láser. Además, el sistema se utilizó para depositar películas delgadas de nitruro de titanio (TiN) y estudiar la factibilidad de obtener un control sobre el nitrógeno incorporado en el material. Mediante el análisis del plasma se evidencia que el sistema dual mejora la reactividad del plasma de nitrógeno, así como su temperatura y tasa de ionización. La temperatura y densidad alcanzadas estuvieron en un rango de 0.8 – 2.0 eV y 10^17 – 10^18 cm-3, respectivamente. Por otro lado, mediante la caracterización del TiN se observó mejoras significativas en la tasa de deposición y en la incorporación de nitrógeno en la película. Además, se observó cambios en su rugosidad y orientación cristalina, los cuales están asociados a la energía y el flujo de los iones que impactan en la superficie del sustrato. Los resultados obtenidos sugieren que la técnica desarrollada tiene un gran potencial para depositar materiales compuestos manteniendo un control en su composición y en sus propiedades. | |
| dc.description.version | 2022-05-04 | |
| dc.format.extent | xiii, 117 páginas | |
| dc.fuente.origen | Autoarchivo | |
| dc.identifier.doi | 10.7764/tesisUC/FIS/57957 | |
| dc.identifier.uri | https://doi.org/10.7764/tesisUC/FIS/57957 | |
| dc.identifier.uri | https://repositorio.uc.cl/handle/11534/57957 | |
| dc.information.autoruc | Facultad de Física ; Bhuyan, Heman ; 0000-0002-6432-6654 ; 1003913 | |
| dc.information.autoruc | Facultad de Física ; Escalona Álvarez, Miguel Benito ; S/I ; 1039778 | |
| dc.language.iso | es | |
| dc.nota.acceso | Contenido completo | |
| dc.rights | acceso abierto | |
| dc.subject.ddc | 621.366 | |
| dc.subject.dewey | Ingeniería | es_ES |
| dc.subject.other | Lásers en física | es_ES |
| dc.subject.other | Física del plasma | es_ES |
| dc.title | Efecto de un plasma de radiofrecuencia dual sobre la dinámica y composición en la deposición por láser pulsado | es_ES |
| dc.type | tesis doctoral | |
| sipa.codpersvinculados | 1003913 | |
| sipa.codpersvinculados | 1039778 |